만드는 중인 웨이퍼 표면을 재는 바늘이 있습니다. 끝 반지름이 10나노미터도 안 되는데, 표면에 닿지 않고 높낮이를 나노미터 아래까지 읽어 냅니다.
영상에서 보는 것
끝 반지름 10nm 미만의 바늘은 웨이퍼를 재면서 표면에 닿지 않습니다
닿지 않는데도 높낮이를 나노미터 아래까지 읽어 냅니다(원자 한 층 계단)
칩은 층을 쌓고 깎으며 만들어서, 중간마다 잘됐는지 재야 합니다
EUV가 새기는 선은 13nm — 빛 현미경이 가를 수 있는 200nm보다 훨씬 가늡니다
그래서 빛 대신 바늘로 직접 더듬는 장비(원자힘현미경, AFM)가 있습니다
바늘은 작은 판(캔틸레버) 끝에 달려 1초에 수십만 번 떱니다
표면에 가까워지면 원자끼리 당기는 힘 때문에 떨림이 줄어듭니다
떨림이 같도록 바늘을 올리고 내리면, 그 움직임이 곧 홈의 깊이입니다
떨림은 판에 비춘 레이저로 읽습니다 — 바늘이 살짝만 움직여도 튕긴 빛은 크게 흔들립니다
바늘 끝이 닳지 않고, 표면도 긁히지 않습니다(닿지 않기 때문)
핵심 요약
회로 선이 빛의 한계보다 가늘어지면서, 만드는 도중의 웨이퍼를 재는 방법도 달라졌습니다. 원자힘현미경은 나노미터 끝의 바늘로 표면을 훑어 높낮이를 그립니다.
비접촉 방식은 바늘이 표면 수 나노미터 위에서 떨기만 하고, 원자 사이 인력이 떨림을 줄이는 정도를 일정하게 유지하며 높이를 잽니다. 그래서 바늘도 표면도 상하지 않습니다.
지금 쥔 폰 속 칩도, 층마다 재고 또 재며 쌓아 올린 것입니다.
용어 정리
계측(Metrology)
공정 사이사이에 웨이퍼 위 회로의 두께·선폭·깊이 같은 값을 숫자로 재는 일입니다. 결함을 찾는 '검사'와 짝을 이뤄, 잘못된 공정을 그 자리에서 잡아 수율을 지킵니다. 대부분은 빛(광학)으로 재고, 더 정밀한 형상은 바늘(AFM)로 잽니다.
원자힘현미경(AFM)
끝이 나노미터 크기인 바늘이 달린 작은 판(캔틸레버)으로 표면을 훑어 높낮이를 그리는 현미경입니다. 빛을 쓰지 않아 빛의 해상도 한계에 묶이지 않습니다.
캔틸레버
바늘이 달린 실리콘 판입니다. 영상 속 기준 제품은 길이 125µm·폭 30µm·두께 4µm, 1초에 약 33만 번(20만~50만 번) 떨립니다. 등 쪽에는 레이저를 잘 튕기도록 알루미늄이 얇게 입혀져 있습니다.
비접촉(논콘택트) 방식
바늘이 표면에 닿지 않고 가까이서 떨며, 원자끼리 당기는 힘(반데르발스 힘)이 떨림을 줄이는 정도로 거리를 지킵니다. 닿는 방식과 달리 바늘 끝이 닳지 않고 표면도 상하게 하지 않습니다(같은 탐침으로 1만5천 번 훑어도 해상도가 그대로, Park Systems 자료).
광지렛대
판 등에 비춘 레이저가 멀리 있는 4분할 광검출기로 튕겨 가게 해서, 바늘의 아주 작은 움직임을 빛점의 큰 움직임으로 바꿔 읽는 방법입니다.
회절 한계
빛 현미경은 빛의 파장 때문에 약 200nm보다 가까운 두 점을 따로 보지 못합니다. EUV 노광기가 새기는 13nm 선은 그보다 훨씬 가늡니다.
※ 바늘 치수·떨림 횟수는 비접촉용 대표 탐침(NANOSENSORS PPP-NCHR) 제조사 사양, 비접촉 원리는 Park Systems 기술 자료, 13nm는 ASML EUV 장비 페이지, 200nm는 Nikon MicroscopyU 자료(모두 2026-10-06 열람), 공정 중 계측은 SK하이닉스 뉴스룸(2019-03-11) 기준입니다.
※ 영상 속 장비 생김새, 바늘과 표면 사이 틈·떨림 폭(눈에 보이게 과장), 원자 배열, 웨이퍼 층 구성, 레이저 경로 길이는 원리를 보여 주는 그림입니다.
영상에서 못 다 한 얘기
빛 한 점 안에 13nm 선이 몇 개나 들어갈까요?
200nm 폭의 빛 점 안에는 13nm 선과 간격 한 쌍이 7개 넘게 들어가요. 그래서 빛만으로는 하나하나 구분하기 어려워요.
바늘은 표면에 닿지 않고, 표면에서 수~수십nm 떨어져 있어요. 바늘 막대 크기는 125×30×4µm예요.
계측은 대부분 광학식이에요.
출처
NANOSENSORS PPP-NCHR 제품 사양, Park Systems True Non-Contact Mode Note·NX-Wafer 제품 페이지, ASML EUV lithography systems, Nikon MicroscopyU 「The Diffraction Barrier in Optical Microscopy」, SK하이닉스 뉴스룸 「DMI그룹을 만나다」(2019-03-11). 기준일 2026년 10월 6일.