.. 차니쓰 리서치
CHANESS RESEARCH
← 3D로 보는 산업 기술 · 차니쓰 리서치 홈

칩 깎다가 같이 닳는 링

반도체 · 장비 부품 · 2026-10-10 · 유튜브 주식을 요리하다
칩을 깎는 플라즈마가 웨이퍼 둘레의 '포커스 링'까지 같이 깎는 이야기예요. 링이 닳아 웨이퍼보다 낮아지면 가장자리 구멍이 비스듬히 뚫려서, 링을 소모품처럼 갈아 끼웁니다.
한눈에 흐름
플라즈마→시스(전기 층)→포커스 링→웨이퍼 가장자리
플라즈마 아래에 이온을 끌어내리는 전기 층(시스)이 생기고, 포커스 링이 그 층을 웨이퍼 끝 너머까지 평평하게 이어 줘요. 그래서 가장자리 이온도 똑바로 내려옵니다.
30초 이해
이게 뭔가요?식각 장비에서 웨이퍼 둘레를 감싸는 링이에요. 웨이퍼 끝의 칩도 가운데와 같은 조건으로 깎이게 도와줘요.
뭐가 어렵나요?링도 플라즈마에 같이 깎여요. 닳아서 웨이퍼보다 낮아지면 가장자리에서 전기 층이 휘고, 이온이 비스듬히 꽂혀요.
어떻게 푸나요?실리콘보다 덜 깎이는 탄화규소(SiC)로 링을 만들고, 쓴 시간이 쌓이면 새것으로 바꿔요.
장면으로 따라가기
옆으로 넘겨 보세요 → (9장면)
링도 같이 깎인다 장면

1링도 같이 깎인다

칩을 깎는 플라즈마는 웨이퍼만이 아니라 웨이퍼 둘레의 검은 링까지 같이 깎아요.

링이 닳으면 가장자리가 비뚤다 장면

2링이 닳으면 가장자리가 비뚤다

링이 닳으면 멀쩡한 웨이퍼의 가장자리가 비뚤게 깎여요.

이름은 포커스 링, 재료는 SiC 장면

3이름은 포커스 링, 재료는 SiC

실리콘보다 덜 깎이는 탄화규소(SiC)로 만들어요. 플라즈마에 잘 소모되지 않는 재료예요.

이온을 끌어내리는 얇은 전기 층 장면

4이온을 끌어내리는 얇은 전기 층

웨이퍼 위에는 이온을 아래로 끌어당기는 얇은 전기 층(시스)이 깔려 있어요.

링이 층을 넓혀 준다 장면

5링이 층을 넓혀 준다

링은 그 층을 웨이퍼 끝 너머까지 평평하게 늘려 줘요. 그래서 가장자리까지 이온이 똑바로 내려와요.

낮아지면 층이 휜다 장면

6낮아지면 층이 휜다

링이 깎여 웨이퍼보다 낮아지면 가장자리에서 층이 휘고, 이온이 비스듬히 꽂혀요.

얇은 단차에도 구멍이 기운다 장면

7얇은 단차에도 구멍이 기운다

한 실험에서는 웨이퍼 두께보다 얇은 0.6 mm 단차에도 가장자리 구멍이 2.5도까지 기울었어요.

깊은 구멍엔 2도도 불량 장면

8깊은 구멍엔 2도도 불량

깊은 구멍을 파는 공정에서는 2도만 기울어도 불량이 될 수 있어요.

그래서 갈아 끼운다 장면

9그래서 갈아 끼운다

링은 수백 시간마다 새것으로 바꿔요. 가장자리 칩을 지키려고 링이 대신 닳는 셈이에요.

비유로 이해하기
💡 페인트 롤러로 벽을 칠한다고 생각해 보세요

벽 끝까지 롤러를 밀 때, 옆에 벽과 같은 높이의 판이 있으면 롤러가 평평하게 굴러가서 끝줄까지 고르게 칠해져요.

포커스 링이 그 옆판이에요. 그런데 옆판이 닳아서 벽보다 낮아지면 롤러가 턱에서 기울고, 끝줄만 삐뚤게 칠해지죠.

이온도 마찬가지예요. 링이 낮아지면 가장자리에서 비스듬히 꽂혀서 구멍이 기울어요.

숫자로 보기
0.6 mm한 실험에서 웨이퍼와 링 사이 높이 차(단차) — 웨이퍼 한 장 두께(0.775 mm)보다 얇은데도 가장자리가 기울기 시작해요
2.5도 이하단차가 0.6 mm 이하일 때 가장자리 식각 기울기. 단차가 커질수록 더 기울어요
2도깊은 구멍을 파는 공정에선 이 정도 기울기도 불량이 될 수 있어요
500시간+식각한 시간이 이만큼 쌓이면 링을 새것으로 바꾼다는 기준이 논문에 인용돼 있어요
산업에서 왜 중요한가
누가 만드나
세계 큰손 (해외)
Tokai Carbon (일본)CVD 방식으로 만든 SiC 부품과 반도체 장비용 소모품을 공급
Ferrotec (일본)식각 장비용 SiC·실리콘 부품 등 챔버 소모품을 공급
CoorsTek (미국)반도체 장비용 세라믹·SiC 부품을 만드는 소재·부품사
국내
티씨케이CVD SiC 포커스 링을 만드는 회사
케이엔제이CVD SiC 포커스 링을 만드는 회사
하나머티리얼즈식각 챔버용 실리콘 링을 만드는 회사
월덱스식각 챔버용 실리콘 링을 만드는 회사
원익QnC식각 챔버용 실리콘·쿼츠 링과 부품을 만드는 회사

해외 회사는 업계에 널리 알려진 대표 업체를 골랐고, 국내 회사는 소부장 정리 글에 나온 표기를 그대로 옮겼습니다. 회사 소개일 뿐 투자 추천이 아닙니다.

영상으로 보기
YouTube에서 보기 ↗
더 깊이 — 원문 요약·용어 정리·출처

칩을 깎는 플라즈마는 웨이퍼만이 아니라 웨이퍼 둘레의 검은 링(포커스 링)까지 같이 깎습니다. 그런데 이 링이 닳아 웨이퍼보다 낮아지면, 웨이퍼 가장자리의 구멍이 비스듬히 뚫립니다.

영상에서 보는 것
핵심 요약

포커스 링은 식각 장비에서 웨이퍼 둘레를 감싸 플라즈마를 웨이퍼 끝 너머까지 넓혀 주는 링입니다. 덕분에 웨이퍼 가장자리까지 이온이 똑바로 내려와 고르게 깎입니다.

링도 플라즈마에 같이 깎이는 소모품이라, 닳아서 웨이퍼와 높이 차가 생기면 가장자리에서 시스가 휘고 이온이 기울어 들어옵니다. 그래서 일정 시간마다 바꾸고, 잘 안 닳는 탄화규소로 만듭니다.

용어 정리
포커스 링(에지 링)
식각 챔버에서 웨이퍼 바로 바깥을 두르는 링입니다. 플라즈마와 그 아래 경계층을 웨이퍼 가장자리 너머까지 이어 줘, 웨이퍼 끝의 칩도 가운데와 같은 조건으로 깎이게 합니다.
탄화규소(SiC)
규소와 탄소가 결합한 단단한 세라믹입니다. 실리콘 링은 실리콘 웨이퍼를 깎을 때 같이 소모되고, 탄화규소는 플라즈마에 잘 소모되지 않아 포커스 링 재료로 쓰입니다. 화학기상증착(CVD)으로 키운 SiC 덩어리를 가공해 만들기도 합니다.
시스(sheath)
플라즈마와 웨이퍼 사이에 생기는 얇은 경계층입니다. 이 층의 전기장이 이온을 표면 쪽으로 가속해 끌어내립니다. 영상의 "얇은 전기 층"이 이것입니다.
단차
웨이퍼 윗면과 링 윗면의 높이 차이입니다. 단차가 생기면 가장자리에서 시스가 휘어 이온 궤적이 기웁니다.
고종횡비 식각
지름보다 훨씬 깊은 구멍을 파는 식각입니다. 구멍이 깊을수록 조금만 기울어도 바닥에서 크게 어긋납니다.
교체
링은 소모품이라 쓴 시간이 쌓이면 새것으로 바꿉니다. 최근 장비는 리프트 핀으로 링을 조금씩 올려 닳은 높이를 보정하고, 챔버를 열지 않고 링을 바꾸는 설계도 있습니다.
※ 포커스 링의 역할·침식·500시간 넘게 쓰면 교체는 Yang 외(Nanosci. Nanotechnol. Lett. 9, 24, 2017), 단차 0.6mm 이하에서 가장자리 식각 기울기 2.5도 이하·고종횡비 식각에서 2도도 결함이 될 수 있음·0.6mm 전에 교체 권고는 Seong 외(Nanomaterials 12, 3963, 2022; 이 실험은 링 대신 웨이퍼를 쌓아 단차를 흉내 냄), 웨이퍼–링 경계 이온 각도 최대 15도 치우침은 Wang·Kushner 외(J. Vac. Sci. Technol. A 39, 063002, 2021), 실리콘 링 소모와 SiC 링은 미국 특허 US10273190B2, 고저항 SiC 링은 WO2009079285A1, 링 높이 보정·에어록 교체는 EP3580777A1, 300mm 웨이퍼 두께 775µm는 SEMI M1 기준입니다(2026-10-08 열람).
※ 챔버 배치, 링 단면 모양, 침식 속도, 시스 두께와 휘는 정도, 이온 크기와 개수, 구멍 크기와 깊이, 폰 내부는 원리를 보여 주는 설명용 그림입니다.
영상에서 못 다 한 얘기

링이 깎여도 높이를 올려 단차를 맞추는 설계가 있습니다.

Lam Research 특허에는 리프트 핀으로 링을 올려 침식을 보정하고, 챔버를 열지 않고 에어록으로 링을 바꾸는 방식이 나옵니다.

영상의 0.6mm 실험은 진짜 링이 아니라, 웨이퍼를 쌓아 단차를 흉내 낸 것입니다.

시뮬레이션에서는 웨이퍼와 링 경계의 이온 각도가 최대 15도까지 치우쳤습니다.

출처
Yang et al., Nanosci. Nanotechnol. Lett. 9, 24 (2017) / Seong et al., Nanomaterials 12, 3963 (2022) / Wang, Lee, Nam, Kushner, J. Vac. Sci. Technol. A 39, 063002 (2021) / US10273190B2 / WO2009079285A1 / EP3580777A1 / SEMI M1. 기준일 2026년 10월 8일.
같은 산업(반도체) 다른 편
▶ 영상
한화오션 워터램, 물로 쏜다
2026-11-02
▶ 영상
청정실보다 깨끗한 로봇 방
2026-10-19
▶ 영상
30년에 1cc 새면 불합격
2026-10-13
▶ 영상
장비 부품은 버리지 않는다
2026-10-12
▶ 영상
웨이퍼 곁엔 유리와 도자기
2026-10-11
▶ 영상
감광막은 벗기지 않고 태운다
2026-10-11
▶ 영상
초당 1356만번 떠는 전기
2026-10-10
▶ 영상
펠리클 위 먼지는 안 찍힌다
2026-10-09
투자 권유가 아닌 기술 설명입니다. 특정 종목의 매수·매도를 권하지 않으며, 그림은 원리를 보여 주는 모식도입니다.